Изменение 23/2025 ОКОФ

Основание: Приказ Росстандарта от 25.12.2025 №1790-ст
Дата приказа: 25.12.2025
Вступает в силу: 01.02.2026, с правом досрочного применения в правоотношениях, возникших с 1 января 2026 года.
Страниц в приказе: 2

В (Включить) И (Изменить) А (Аннулировать) ИР (Исправить)
17 1 0 0
Действие Код Наименование Пояснение/приказ
В 330.28.99.20.190 Оборудование сборочное для производства интегральных схем и дискретных полупроводниковых приборов
В 330.28.99.20.290 Оборудование, исключительно или в основном используемое для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных схем и дискретных полупроводниковых приборов, печатных плат прочее, не включенное в другие группировки
В 330.28.99.20.270 Оборудование для нанесения финишных покрытий, включая флюсование, горячее лужение и отмывку печатных плат
В 330.28.99.20.260 Оборудование, предназначенное для инспекционного контроля и тестирования печатных плат
В 330.28.99.20.250 Оборудование химического и гальванического осаждения металлов на печатные платы
В 330.28.99.20.240 Оборудование жидкостной химической обработки и очистки печатных плат
В 330.28.99.20.230 Оборудование сборки пакетов, прессования многослойных печатных плат
В 330.28.99.20.220 Оборудование химико-литографическое для нанесения, ламинирования, экспонирования, проявления и снятия фоторезиста и защитной паяльной маски при производстве печатных плат Изменение 124/2025 ОКПД 2
В 330.28.99.20.210 Оборудование механической обработки, включая резку, раскройку, скрайбирование, сверление, используемые для обработки печатных плат и их заготовок, а также рентгеновские установки вскрытия базовых отверстий многослойных печатных плат после прессования Изменение 124/2025 ОКПД 2
В 330.28.99.20.180 Оборудование для механической резки полупроводниковых слитков (булей) и пластин
В 330.28.99.20.170 Оборудование для химико-механического утонения, полировки, планаризации, бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин
В 330.28.99.20.160 Оборудование лазерное для обработки полупроводниковых пластин
В 330.28.99.20.150 Оборудование для формирования тонкопленочных структур полупроводниковых приборов
В 330.28.99.20.140 Физико-термическое оборудование
В 330.28.99.20.130 Оборудование для ионной имплантации примесей в полупроводниковые пластины
В 330.28.99.20.120 Оборудование химико-литографическое для обработки полупроводниковых пластин и формирования топологического рисунка Изменение 85/2023 ОКПД 2
В 330.28.99.20.110 Оборудование для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур Изменение 85/2023 ОКПД 2
И 330.28.99.20 Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев Изменение 124/2025 ОКДП 2